차세대 DRAM 반도체 제조 공정은 나노미터 단위의 고정밀 계측 기술을 필수적으로 요구하고 있다. 특히 고수율과 수율 편차 감소를 실현하기 위해 실시간 3차원 계측 및 공정 제어 능력은 생산성과 품질 모두에 영향을 미친다. 이러한 산업적 요구에 따라 인라인 계측 시스템이 대량 생산 환경에서 중요성을 더해가고 있다.

반도체 첨단 계측 솔루션 기업 인피니티시마(Infinitesima)는 SK하이닉스(SK hynix)가 자사의 메트론(Metron)3D 300mm 인라인 웨이퍼 계측 시스템을 차세대 DRAM 양산 라인에 채택했다고 발표했다.

메트론 3D는 서브 나노미터 정밀도의 3차원 계측 기능을 제공하며, DRAM 공정의 주요 단계에서 품질과 생산 안정성을 향상시키는 역할을 수행한다. SK하이닉스는 시스템 채택 전, 다양한 공정 단계에 대한 정밀한 평가와 특성화 작업을 수행했다.

초고속 계측 성능과 완전 자동화로 대량 생산 대응

메트론 3D는 인피니티시마의 독자 기술인 RPM(Rapid Probe Microscope)을 기반으로 하며, 기존 AFM(Atomic Force Microscope)보다 10배 이상 빠른 이미지 처리 속도를 제공한다. 시스템은 완전 자동화된 웨이퍼, 데이터, 프로브 핸들링 기능을 갖추고 있어, 인라인 대량 생산(HVM) 환경에서 실시간 공정 제어에 최적화되어 있다.

SK하이닉스의 최영현 DMI 담당 선임은 “나노미터 수준에서의 3차원 공정 제어는 첨단 DRAM 제조 공정에서 고수율 확보를 위한 핵심 기술”이라며 “메트론 3D는 HVM 환경에서 뛰어난 계측 성능과 비용 효율성을 동시에 입증했다”고 밝혔다.

인피니티시마 피터 젠킨스(Peter Jenkins) 회장 겸 CEO는 “SK하이닉스의 적극적인 협력과 지원 덕분에 메트론3D 시스템이 빠르게 품질 평가를 마치고 HVM에 적용될 수 있었다”고 언급했다. 메트론 3D의 도입은 SK하이닉스의 DRAM 공정 고도화와 기술 경쟁력 강화를 위한 전략적 행보로 해석되며, 인라인 고속 계측 기술의 산업적 확산에도 기여할 것으로 기대된다.